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本文基于脉冲激光沉积（PLD）方法及热退火处理方式，利用输出波长为1064nm的Nd：YAG脉冲激光器在P型Si（100）衬底上生长了均匀的单相β-FeSi2薄膜。采用x射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）分析技术，研究了β-FeSi2薄膜的结构、组分、结晶质量和表面形貌。结果发现，在其他相同沉积条件下，随着溅射时间的增加，薄膜晶化程度、颗粒大小和形状、表面粗糙度都发生规律性变化，通过分析比较得出，在本实验条件下溅射时间为40min制备的β-FeSi2薄膜结晶质量较好。