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利用高等离子体密度、高电子温度和高离化率的ECR微波等离子体增强二极溅射、磁控溅射反应沉积金属氮化物薄膜。实验结果表明,ECR微波等离子体具有降低薄膜沉积温度,提高薄膜沉积速率和改善薄膜质量的作用。特别是采用基片施加脉冲负偏压的ECR微波等离子体源离子增强反应磁控溅射沉积技术,设备成本低,工艺方法简单,可获得与离子束增强沉积相近的对薄膜结构和特性的改性作用,可制备高质量金属氮化物薄膜。