对向靶溅射制备CN膜研究

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使用对向靶系统在Si(100)基片上于不同N2分压下制备CN膜样品。X射线衍射表明样品为非晶结构。用X射线光电子谱测量膜中N的含量,结果表明膜中/C随N2分压提高而增大,当N2分压为100%时,N/C达到0.46。用X射线光电子谱和红外谱研究了膜中C与N的键态,结果表明膜中C与N之间存在化学键合。N与C的键态主要由N-sp^2C和N-sp^C及少量C=C组成。
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