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采用反应磁控共溅射的方法，通过改变Cr靶溅射功率，在不锈钢基体上沉积不同cr含量TiAlCrN薄膜。采用原子力显微镜（AFM）观察薄膜表面形貌；采用动电位极化试验研究薄膜的电化学腐蚀行为。结果表明：沉积的TiAlCrN薄膜表面平整、光滑、致密，无孔洞和突起等缺陷，晶粒细小，粗糙度低；TiAlCrN薄膜的抗腐蚀性好于不锈钢和TiAlN薄膜，且随Cr含量增加而增强。Cr含量为25．5％（原子分数）试样成膜质量最好，其抗腐蚀性约为不锈钢的15．0倍，约为TiAlN薄膜的7．7倍。