N型杂质对(Ge)n/(Si)n应变层超晶格电子结构的影响

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本文用LCAO—Recursion方法研究了n型(磷)杂质对(Ge)n/(St)n应变层超晶格(SI。S)电子结构的影响,计算了杂质及其近邻和次近邻原子的局域(LDOS)和分波态密度(PDOS);计算了纯净和掺杂超晶格的总态密度,得出了带隙和费米能级。另外还计算了P杂质代替超晶格表面原子时的LDOS和PDOS。我们发现:P的掺杂使超晶格的赛米能级上升;杂质带形成带尾进入禁带从而使带隙变窄;表面P杂质影响表面态的来源及大小。更多还原
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