集成电路设计中利用填充金属优化压降的方法

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文章提出了一种在深亚微米集成电路设计中优化压降的创新方法,文中重点介绍了压降的成因及利用填充金属优化压降的方法,比如填充金属层次的优化选择、金属形状及方向的优化、目标密度的设置、时序控制等,使得优化后的压降有5%的降低。 This paper presents an innovative method to optimize the voltage drop in deep submicron integrated circuit design. The paper mainly introduces the causes of pressure drop and the method of using filler metal to optimize pressure drop, such as the optimal choice of filler metal level, the shape and direction of metal Optimization, target density settings, timing control, etc., so that the pressure drop after the optimization of 5% reduction.
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