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介绍了一种不用掩模的光刻技术--激光干涉光刻技术的基本原理,给出了干涉光刻技术的主要特点及一些可能的应用,并对实验系统和初步实验结果进行了分析.研究表明,激光干涉光刻具有大视场和分辨率高和视场宽等优点.
无掩模激光干涉光刻技术研究术
【摘 要】
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介绍了一种不用掩模的光刻技术--激光干涉光刻技术的基本原理,给出了干涉光刻技术的主要特点及一些可能的应用,并对实验系统和初步实验结果进行了分析.研究表明,激光干涉光刻
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所,四川大学物理系,中国科学院微电子中心,四川师范学院物理系
【出 处】
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微纳电子技术
【发表日期】
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2004年期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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