【摘 要】
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离子束溅射(IBS)系统具有稳定的沉积速率和良好的工艺重复性,然而在沉积初期其速率仍会发生变化.为研究其变化规律,采用离子束溅射技术,以Nb2O5和Al2O3为高低折射率材料,制备
【机 构】
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华中光电技术研究所—武汉光电国家研究中心,湖北武汉430223
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离子束溅射(IBS)系统具有稳定的沉积速率和良好的工艺重复性,然而在沉积初期其速率仍会发生变化.为研究其变化规律,采用离子束溅射技术,以Nb2O5和Al2O3为高低折射率材料,制备了中红外波段高反膜,用傅里叶变换红外光谱仪测试了膜层的反射率光谱曲线,采用扫描电镜测试了膜层的断面形貌,结果显示膜层厚度随着层数的增加而减小.通过光谱反演的方法,建立沉积速率随时间呈指数变化的模型,通过优化设计,使理论曲线与实测结果的吻合程度大大提高,均方根误差由10％下降至1.5％.研究结果为时间监控方式下的膜厚修正提供了参考依据.
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