【摘 要】
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为比较X射线光电子能谱（XPS）与紫外光电子能谱（UPS）测量材料功函数结果间的差异,依次对经氩离子清洁表面吸附层的Au、Ag薄膜样品和单晶硅片,以及未进行表面清洁的Au、Ag、MoO3薄
【机 构】
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中山大学测试中心,暨南大学物理学系,广东工业大学分析测试中心
【基金项目】
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国家自然科学基金项目（21576301,51303217,51373205,61674070,11574119）
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为比较X射线光电子能谱（XPS）与紫外光电子能谱（UPS）测量材料功函数结果间的差异,依次对经氩离子清洁表面吸附层的Au、Ag薄膜样品和单晶硅片,以及未进行表面清洁的Au、Ag、MoO3薄膜样品,单晶硅片及ITO导电玻璃的功函数进行测量。给出了XPS和UPS测量功函数的计算方法,并探讨了影响材料功函数测量结果不确定性的因素。研究发现XPS及UPS在测量表面清洁的金属样品时,测量结果基本一致,具有较高的准确度,表面清洁的Au、Ag样品一经暴露空气后其表面覆盖一层吸附层,功函数很快发生变化。利用UPS或XPS
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