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一真空蒸镀设备包括具有多个蒸发源和一加热器的一真空室。加热器加热诸蒸发源以实现在真空室内的至少一基片的一表面上的真空蒸镀。至少一蒸发源利用一有机材料，将包围诸蒸发源和诸蒸发源和基片在内相互面对的一空间的热壁加热至该有机材料既不附着又不分解的温度。通过加热诸蒸发源同时使诸蒸发源和基片彼此相对运动使该有机材料蒸镀在基片的表面上。