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微通道板次级电子发射层中各元素随深度的分布
微通道板次级电子发射层中各元素随深度的分布
来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:harvy_chen
【摘 要】
:
本文应用XPS研究微通道板次级电子发射层中各元素浓度随深度的分布,以及不同烧氢还原温度对此分布的影响,并讨论了不同烧氢还原温度对次级电子发射性能的影响,在此基础上提出
【作 者】
:
韦亚一
陶兆民
【机 构】
:
中国科学院电子学研究所,中国科学院电子学研究所
【出 处】
:
真空科学与技术
【发表日期】
:
1991年6期
【关键词】
:
微通道板
XPS(X光电子能谱)
烧氢还原
元素深度分布
次级电子发射体
Micro-channel Plate(MCP)
XPS(X-ray photoel
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本文应用XPS研究微通道板次级电子发射层中各元素浓度随深度的分布,以及不同烧氢还原温度对此分布的影响,并讨论了不同烧氢还原温度对次级电子发射性能的影响,在此基础上提出了改进微通道板性能的几个途径。
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