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在用于发光器件制造的多层ＭＯＣＶＤ外延技术中，用高速氢气流冲洗管路，混合有机源获得晶格匹配好，而且界面过度层薄膜的突变异质结界面。
涡轮MOCVD技术中有机源高速均匀混合
【摘 要】
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在用于发光器件制造的多层ＭＯＣＶＤ外延技术中，用高速氢气流冲洗管路，混合有机源获得晶格匹配好，而且界面过度层薄膜的突变异质结界面。
【机 构】
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华南师范大学量子电子学研究所
【出 处】
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发光学报
【发表日期】
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1997年4期
【基金项目】
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广东省自然科学基金
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