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Micro-patterning of Copper Based on Photolithographed Self-assembly Monolayers
Micro-patterning of Copper Based on Photolithographed Self-assembly Monolayers
来源 :黑龙江科技学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sophia_je
【摘 要】
:
为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7
【作 者】
:
LanHUANG,LiNaXU,HaoYingSHEN,HaiQianZHANG,NingGU
【机 构】
:
National Laboratory of Molecular and Biomolecular Electonics, Southeast University, Nanjing 210096
【出 处】
:
黑龙江科技学院学报
【发表日期】
:
2002年2期
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为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7<
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