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为满足589nm黄光激光器聚光元件双波段减反膜的使用要求，根据有效界面法设计原理设计膜系，以Ta2O3和SiO2为镀膜材料，使用TFC膜系设计软件对膜系进行优化，运用电子柬蒸发方法和离子束辅助沉积方法，在零膨胀玻璃上镀制589nm反射率在2％～3％之间、1064nm反射率小于1％的双波段减反膜，通过膜系结构和工艺参数的优化解决了589nm反射率在2％～3％之间难以控制的问题，获得了符合聚光元件使用要求的减反射薄膜。