三氯乙酸阴离子表面印迹材料的制备及其识别特性

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使用偶联剂γ-氨丙基三甲氧基硅烷(AMPS)对微米级硅胶微粒进行表面改性,制得表面键合有氨基的改性硅胶微粒AMPS—SiO2。在水溶液体系中,凭借静电相互作用,三氯乙酸(TCAA)阴离子与阳离子单体丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(DAC)相结合;溶液中的过硫酸盐与改性微粒AMPS—SiO2表面的氨基构成氧化还原引发体系,在硅胶微粒表面产生自由基,使DAC及交联剂N,N'-亚甲基双丙烯酰胺(MBA)在硅胶微粒表面的接枝交联聚合与TCAA阴离子的表面印迹同步进行;洗脱模板离子后,制得了TCAA阴离子表面印迹材料II
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