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Behavior of Deuterium in Boron Films Covered by Oxygen-Containing Layer
【机 构】
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不详,RadiochemistryResearchLaboratory,RadioisotopeCenter.TheUnivensityofTokyo,NationalInstituteforFusi
【出 处】
：
核工业西南物理研究院年报：英文版
【发表日期】
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2004年1期
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