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采用化学镀的方法在组成为NiSO4·6H2O+NaH2PO2·H2O+Na3C6H5O7·H2O的化学镀液中与Pd活化的p型Si(100)表面制备了NiP薄膜,利用X射线能量色散谱(EDX)对NiP薄膜的成分进行了表征。用原子力显微镜(AFM)和电化学阳极溶出(ASV)的方法对不同化学镀时间下的NiP薄膜在Si表面的覆盖度进行了研究。结果表明,在表面覆盖度Г达到4.03×10^-8mol/cm^2时,表面覆盖达到饱和,此时颗粒大小均一,并分布均匀。以NiP/Si为工