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采用化学镀的方法在组成为NiSO4·6H2O＋NaH2PO2·H2O＋Na3C6H5O7·H2O的化学镀液中与Pd活化的p型Si（100）表面制备了NiP薄膜，利用X射线能量色散谱（EDX）对NiP薄膜的成分进行了表征。用原子力显微镜（AFM）和电化学阳极溶出（ASV）的方法对不同化学镀时间下的NiP薄膜在Si表面的覆盖度进行了研究。结果表明，在表面覆盖度Г达到4．03×10^-8mol／cm^2时，表面覆盖达到饱和，此时颗粒大小均一，并分布均匀。以NiP／Si为工