利用MSOS电容器测量a—Si：H薄膜的厚度

来源 :中南民族学院学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：jjy2005

【摘要】

：

由金属-非晶态半导体-氧化物-半导体等4层结构组成的MSOS电容器,它的正向偏压C-V特性曲线有一个电容的最小值C_min,它反映了a-Si:H薄膜的厚度d_(?),提出了一种新的测量a-Si:H簿膜厚度的方法——电容测厚法,它有如下优点:①测量数据可靠;②精度较高,可达±8nm;③测量范围较大。

【作者】

：

龚道本

【机构】

：

物理系

【出处】

：

中南民族学院学报(自然科学版)

【发表日期】

：

1996年03期

【关键词】

：

MSOS电容器半导体薄膜厚度测量硅 MSOS capacitordepletion layer capacitance Cmoxide layer c

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