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利用等离子辅助分子束外延系统研究了生氏在硅（111）衬底的氮化镓pn结，并将其应用于光学器件．硅和镁分别用做n和p掺杂，反射高能电子衍射图像显示氮化镓pn结层具有良好的表面形貌，结层厚度约为0．705nm，且为六方结构．室温下X射线衍射对称摇摆曲线中（0002）面的ω／2θ显示，半峰宽为0．340，说明氮化镓pn结质量高．另外，在硅和镁掺杂样品中没有A1峰淬火．光致发光光谱表明pn结样品具有良好的光学性能．镍和铝作为分别作为正面和背面的电极接触应用于光学器件，该器件的电流电压特性显示了典刑的异质结整流特性