工艺参数对飞秒激光沉积硅基 ZnO 大面积均匀薄膜性能的影响

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xufuen2001
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研究了衬底温度、真空度、激光能量、激光脉冲频率及退火处理对飞秒激光制备硅基ZnO大面积均匀薄膜的结构和性能的影响。结果表明,当激光能量为1.5mJ、脉冲频率为400Hz、真空度为1.0mPa、衬底温度为80℃时,所制备的薄膜质量最佳。薄膜呈高度c-轴取向,为典型的六方纤锌矿结构,晶粒沿垂直于衬底表面的方向生长;当衬底温度高于80℃时,随着温度的升高,c-轴取向度降低。80℃制备的薄膜在可见紫外区域透过率达98%,电阻率随温度升高而减小,退火后薄膜的透过率增大、电阻率升高。
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