Effect of substrate temperature on structural properties and photocatalytic activity of TiO2 thin fi

来源 :中国有色金属学会会刊：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：shztky880

【摘要】

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有锐钛矿结构的二氧化钛(TiO2 ) 电影在由切除钛(99.99%) 的脉搏激光的底层在 500 800 ° C 的底层温度在 10 Pa 的氧压力下面指向的石英玻璃上被准备。这些电影的结构的

【作者】

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赵磊连建设

【机构】

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KeyLabofAutomobileMaterials

【出处】

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中国有色金属学会会刊：英文版

【发表日期】

：

2007年4期

【关键词】

：

二氧化钛薄膜脉冲激光沉积光催化活性薄膜结构 TiO2 thin film pulsed laser deposition photocatalytic

【基金项目】

：

Project（2004CB619301） supported by the National Basic Research Program of China

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有锐钛矿结构的二氧化钛(TiO2 ) 电影在由切除钛(99.99%) 的脉搏激光的底层在 500 800 ° C 的底层温度在 10 Pa 的氧压力下面指向的石英玻璃上被准备。这些电影的结构的性质被 X 光检查 diffractometry (XRD ) 描绘， X 光检查光电子光谱学(XPS ) 和地排放扫描电子显微镜学(FESEM ) 。结果证明当底层温度从 600 ° C 被增加到 800 ° C，这些电影的锐钛矿结构从随机的生长改变到(211 ) 面向的生长。紫外力的

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