【摘 要】
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<正>在半导体器件制造的各个阶段用于清洗晶片的一个紧凑的装置已经研制成功。这个装置使用高频(0.8MHz到1MHz)超声能(这里用“兆赫级超声”这个词)和常温下的标准化学溶液。
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<正>在半导体器件制造的各个阶段用于清洗晶片的一个紧凑的装置已经研制成功。这个装置使用高频(0.8MHz到1MHz)超声能(这里用“兆赫级超声”这个词)和常温下的标准化学溶液。这项已获专利的工艺能同时从晶片的正反两面有效地除去直径约0.3μm的粒子、有机物薄膜和许多离子杂质。经简单漂洗后,晶片放在热气流中烘干。整个处理时间约15分钟,并且至少100片晶片能同时在石英或塑料支架上清洗,无需装上卸下。
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