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水热法制备了ZnO纳米线阵列后,用逐级化学浴沉积法将Ag3PO4沉积在阵列上形成Ag3PO4/ZnO纳米线阵列复合光催化剂.运用XRD、SEM、EDS、紫外-可见漫反射光谱、光电流性能测试、光催化降解等技术手段对Ag3 PO4/ZnO纳米线阵列的形貌结构、光电性能等进行表征.探讨了逐级化学浴沉积Ag3PO4的次数对其光催化效率的影响.光电性能测试表明,Ag3 PO4/ZnO纳米线阵列具有比纯ZnO纳米线阵列更高的光生电流密度,光响应更好.与纯ZnO纳米线阵列相比,Ag3PO4/ZnO纳米线阵列材料对罗丹明