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离子束溅射镀膜过程中,从离子源出射的离子束具有较强的发散性。对于靶源距较大的离子束溅射应用,发散的离子束不仅会溅射其他结构表面而造成微量元素交叉污染,而且镀膜均匀性也会有影响。通过在离子源前端加装一套四极静电聚焦透镜,对出射离子束的发散性进行约束,不仅避免了交叉污染,而且膜层的均匀性也从±5%(没使用静电聚焦透镜使用)改善到±3%(使用静电聚焦透镜)。