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本文采用真空阴极弧离子镀与等离子体基离子注入相结合的复合沉积技术，以硅片为基底制备了ZrO2薄膜。利用GIXRD、AFM和TEM研究了氧离子注入时间对薄膜的相结构、表面形貌影响规律。结果表明，氧离子注入时间对ZrO2薄膜的微观组织结构有显著的影响；适宜的工艺参数可以获得m（111）择优取向；相对于其它方法所制备的ZrO2薄膜，本文所制备的ZrO2薄膜具有较低的粗糙度值。