【摘 要】
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为了能同时满足半导体激光器和YAG激光器对薄膜的特殊要求，在分析高反射膜理论的基础上，选取TiO2和SiO2为高、低折射率材料镀制了周期性多层介质高反射膜。研究了材料的光学及
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为了能同时满足半导体激光器和YAG激光器对薄膜的特殊要求，在分析高反射膜理论的基础上，选取TiO2和SiO2为高、低折射率材料镀制了周期性多层介质高反射膜。研究了材料的光学及机械特性，重点解决了薄膜的消偏振和抗激光损伤问题。实验采用电子束真空镀膜并加以考夫曼离子源辅助沉积，利用TFC软件进行膜系设计，通过调整镀膜工艺参数和监控方法，在10mm×1．8mm的K9基底上镀制了符合要求的高反射膜，结果表明，当激光以45°入射时，薄膜在900～1100nm的P光与s光的反射率均大于99．95％
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