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采用强电流直流伸展电弧化学气相沉积（HCDCACVD）技术，在Ar、H2和四甲基硅烷（TMS）先驱体组成的混合气体气氛下，在YG6硬质合金衬底表面沉积了SiC涂层。本文对不同TMS流量条件下制备的SiC涂层的沉积速率、表面形貌、化学成分、物相组成以及附着力进行了对比研究。在此基础上，实验选取表面连续致密且附着力良好的SiC涂层作为过渡层进行了金刚石涂层的沉积，并对金刚石涂层的形貌、质量以及附着力进行了表征。实验发现。随着TMS流量的增加，SiC涂层的沉积速率加快，连续和致密性逐渐改善，但其附着力明显降低。