等离子体化学气相沉积法及其最新发展

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本文将对等离子体的性质、等离子体对化学气相沉积的作用、PCVD反应器以及 新近发展起来的微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)的特点和应用作一综述。期 望引起国内同行对这一崭新领域的关注,把我国PCVD特别是MPCVD的研究工 作推向前进。 In this paper, the properties of plasma, the effect of plasma on chemical vapor deposition, the characteristics and applications of PCVD reactor and the newly developed microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) are reviewed. The expectation is to arouse the concern of domestic counterparts in this new field and to push forward the research on PCVD in China, especially MPCVD.
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