全国半导体设备和材料标准化技术委员会第六届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会2016年会在重庆召开

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全国半导体设备和材料标准化技术委员会第六届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会于2016年10月25—28日在重庆市召开,来自全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会的委员和国内外微光刻领域的专家及技术人员近130人参加了本次 National Semiconductor Equipment and Materials Standardization Technical Committee of the sixth session of the microlithography and microlithography Technical Committee annual meeting on October 25-28, 2016 in Chongqing, from the National Semiconductor Equipment and Materials Standardization Technical Committee micro Nearly 130 participants from lithography subcommittees and experts and technicians at home and abroad in micro-lithography participated in this
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