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期刊论文
高速Zn—SiO2复合电镀
高速Zn—SiO2复合电镀
来源 :北京科技大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gogouu
【摘 要】
:
在实验室高速电镀装置上,研究了镀液中SiO2加篱量、阴极电流密度对镀层中SiO2含量及镀层表面形貌、组织结构的影响,确定了理想的SiO2加入范围和阴极电流密度。
【作 者】
:
吴继勋
张海冬
【机 构】
:
北京科技大学表面科学与腐蚀工程系
【出 处】
:
北京科技大学学报
【发表日期】
:
1995年5期
【关键词】
:
高速镀
锌
二氧化硅
显微结构
电镀
high speed plating
zinc+silicon oxide
microstructure
【基金项目】
:
冶金部重点课题,冶金部腐蚀-磨蚀开放实验室项目
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在实验室高速电镀装置上,研究了镀液中SiO2加篱量、阴极电流密度对镀层中SiO2含量及镀层表面形貌、组织结构的影响,确定了理想的SiO2加入范围和阴极电流密度。
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