电子束纳米光刻技术研究

来源 :中国微米/纳米第六届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hero_1205
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纳米光刻技术在微电子制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一.我们使用VB5电子束曝光系统,经过工艺研究,现已研究出最细分辨率剥离金属条为17nm,最小剥离电极间距为10nm,最细T型栅为100nm.
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