【摘 要】
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在超高真空条件下,通过脉冲激光技术沉积La2O3/LaAlO3/Si多层膜结构,原位条件下利用同步辐射光电子能谱研究了LaAlO3作为势垒层的La2O3与Si的界面电子结构。实验结果显示,LaA
【基金项目】
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国家自然科学基金（61366001,61464010,61604126）资助.
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在超高真空条件下,通过脉冲激光技术沉积La2O3/LaAlO3/Si多层膜结构,原位条件下利用同步辐射光电子能谱研究了LaAlO3作为势垒层的La2O3与Si的界面电子结构。实验结果显示,LaAlO3中Al的2p峰在沉积和退火前后没有变化;衬底硅的芯能级峰在沉积LaAlO3时没有变化,但在沉积La2O3薄膜和退火过程中,硅峰变弱;O的1S芯能级的峰由多种不用的氧化物薄膜层和反应物中的氧杂化而成。结果表明：LaAlO3从沉积到退火当中,不参与任何反应,Si与LaAlO3界面相当稳定;在体系中,阻挡层LaAl
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