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摘要：采用四氯化钛的无水乙醇溶液为钛源，以聚乙烯吡咯烷酮（PVP）为成膜助剂及还原助剂，利用碳热还原氮化技术，在N2气氛下经1300oC进行还原氮化5h制备出TiN薄膜。采用XRD和SEM研究了PVP分子量及其用量对TiN薄膜微观结构的影响。结果发现，随着PVP分子量增大，薄膜中TiN晶体沿（111）面择优生长趋势减小，PVP分子量为1300000时薄膜中TiN晶粒尺寸较大，晶界减少。当PVP用量由钛／碳摩尔比为1：10增加到1：12时，TiN薄膜裂纹减少，而增至1：14时，TiN薄膜中气孔增多。TiN薄