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在大规模集成电路生产中，对掩膜版与硅片刻线宽度的在线检测是保证质量的重要手段。本文介绍了一种高精度，自动化的线宽测量仪。阐述了其原理，构成及设计中有关问题。经实验表明：该仪器的重复测量精度≤±０．００５μｍ；测量精度为±０．０２μｍ。
纳米级精度的线宽测量仪
【摘 要】
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在大规模集成电路生产中，对掩膜版与硅片刻线宽度的在线检测是保证质量的重要手段。本文介绍了一种高精度，自动化的线宽测量仪。阐述了其原理，构成及设计中有关问题。经实验表明
【机 构】
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清华大学精密仪器系
【出 处】
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光学精密工程
【发表日期】
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1994年1期
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