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<正> 在硅片的制造工序中,通常要进行切割、研磨、抛光等加工,因此在硅片表面将形成畸变层。此加工畸变层对制成的器件之特性有很大的影响,这将成为元件制造中产生晶体缺陷的来源,迫切要求减小加工畸变的各种试验已被进行过,曾用电学、
硅的加工畸变(切割、研磨、抛光)
【摘 要】
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<正> 在硅片的制造工序中,通常要进行切割、研磨、抛光等加工,因此在硅片表面将形成畸变层。此加工畸变层对制成的器件之特性有很大的影响,这将成为元件制造中产生晶体缺陷的
【出 处】
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半导体情报
【发表日期】
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1974年10期
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