硅基底平面波导光通讯集成器件的模拟、设计及工艺

来源 :第九届全国光电技术及系统学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jupming_snoopy

【摘要】

：

随着平面波导制作工艺的日益成熟,制造精度的不断提高,成本的持续下降,平面波导光集成器件尤其是Si基底上SiO[2,]平面波导集成器件在光通信系统中的应用更加重要和广泛,Y分支

【作者】

：

何赛灵殷源戴道锌盛钟延王谦吕俊周勤存

【机构】

：

浙江大学光电系光及电磁波研究中心(浙江杭州)

【出处】

：

第九届全国光电技术及系统学术会议

【发表日期】

：

2001年8期

【关键词】

：

平面波导陈列波导光栅蚀刻衍射光栅波分复用光束传播光集成器件模拟设计

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随着平面波导制作工艺的日益成熟,制造精度的不断提高,成本的持续下降,平面波导光集成器件尤其是Si基底上SiO[2,]平面波导集成器件在光通信系统中的应用更加重要和广泛,Y分支分束器、MMI耦合器、阵列波导光栅(AWG)和蚀刻衍射光栅（EDG）等平面波导集成器件正扮演着越来越重要的作用,BPM等数值计算方法在这些器件的设计和模拟中也起了重要作用,本文就此作了一些探讨.

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