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采用射频磁控溅射的方法，通过改变溅射气压，在玻璃衬底上沉积出具有C轴择优取向的ZnO薄膜。用X射线衍射仪（xRD）、扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）对不同溅射气压下ZnO薄膜的结构、断面和表面形貌进行研究分析。结果表明，随着溅射气压的降低，ZnO薄膜的（002）取向增强，薄膜的厚度增加，沉积速率加快，氧化锌薄膜的沉积速率从4nm／min升高到21nm／min。在溅射压强为2．5Pa时制备的ZnO薄膜粗糙度最小，大小为5．45nm。