【摘 要】
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针对神光-Ⅲ主机激光装置片状放大器的洁净控制采取了一系列有效措施.除了设计上更有利于洁净控制外,机械结构件表面残留不挥发性有机污染物也达到了低于1 mg/m2的水平.为了
【机 构】
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心
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针对神光-Ⅲ主机激光装置片状放大器的洁净控制采取了一系列有效措施.除了设计上更有利于洁净控制外,机械结构件表面残留不挥发性有机污染物也达到了低于1 mg/m2的水平.为了进一步提高放大器洁净度,进行了光照清洗.实验结果表明:神光-Ⅲ主机装置的洁净水平与美国国家点火装置接近,光照清洗时内部气溶胶等级维持在5 000～10 000之间,且绝大部分表面有机残留物在最初几发光照清洗中已被释放,从而得到一个干净的放大器腔体,减少了放大器运行时光学元件受污染和损伤的几率.
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