【摘 要】
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综述了近五年来为神光装置研制大口径熔石英采样光栅所取得的主要进展。提出了大尺寸采样光栅的化学机械抛光技术,将全息光刻-离子束刻蚀的430mm口径采样光栅的采样效率均匀
【机 构】
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中国科学技术大学国家同步辐射实验室,杭州电子科技大学生命信息与仪器工程学院,中国工程物理研究院激光聚变研究中心工程光学部
【基金项目】
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国家重大专项资助项目,中国科学院知识创新工程重要方向项目（No.GY2011053005）,国家自然科学基金资助项目（No.10975139）,安徽省科技攻关项目（No.131015195）
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综述了近五年来为神光装置研制大口径熔石英采样光栅所取得的主要进展。提出了大尺寸采样光栅的化学机械抛光技术,将全息光刻-离子束刻蚀的430mm口径采样光栅的采样效率均匀性控制在均方根值低于5%,满足了采样光栅的设计要求。针对采样光栅的阈值特性,利用二次离子质谱技术,定量表征了采样光栅制备过程中引入的污染及其清洗效果,优化、发展了采样光栅的清洗方法。探索了基于氢氟酸和感应耦合等离子体刻蚀的熔石英基底处理技术,结合干湿法处理技术来去除熔石英光栅基底的亚表面损伤。为进一步提升采样光栅抗激光辐射损伤特性,提出将发展
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