论文部分内容阅读
研究了氧氮化硅结合碳化硅（Si2N2O/SiC）材料在纯镁及AZ91镁合金液中的侵蚀行为。扫描电镜显示，金属与氧氮化硅结合碳化硅材料之间有一个很薄的过渡层，基体内部无金属渗入；X射线衍射分析表明，氧氮化硅结合碳化硅材料表面的SiO2与金属液之间发生了反应，形成了腐蚀产物层，SiC和Si2N2O未受到侵蚀；侵蚀动力学表明，当试样表面的SiO2消耗完毕、腐蚀产物在试样表面形成致密的覆盖层以后，试样几乎不再发生明显的侵蚀。