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提出了一种面向微加工的虚拟光刻系统Litho3D。该系统采用傅立叶光学成像模型、光刻胶曝光及显影模型，实现了投影式光学光刻的三维模拟。它拥有标准的GDSII、CIF版图格式接口和支持各种光学参数（包括数值孔径、波长、离焦量，光刻胶厚度、表面折射率等）的模拟设置。模拟结果的显示采用了体绘制与网格相结合的方法，增强了结果的可视性。此外，光刻模拟结果可以直接导入到虚拟工艺系统ZProcess中作为刻蚀工艺的掩膜输入，实现了光刻工艺与其他微机电系统（MEMS）工艺模拟的无缝集成。一系列模拟结果验证了该系统的可行性