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本文主要论述了真空磁控溅射镀膜技术近年来国内外的发展状况及其前景,并探讨了该技术的优越性,着重研讨了塑料金属化及提高镀层质量的几项措施。
真空阴极磁控溅射镀膜的发展及其应用
【摘 要】
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本文主要论述了真空磁控溅射镀膜技术近年来国内外的发展状况及其前景,并探讨了该技术的优越性,着重研讨了塑料金属化及提高镀层质量的几项措施。
【出 处】
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材料开发与应用
【发表日期】
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1988年02期
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