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研究了粗化电流密度、添加剂、硫酸含量等因素对电解铜箔表面铜粉和剥离强度的影响。结果表明：当粗化电流密度为30A／dm^2，硫酸含量为120g／L，镍离子含量为0．5g／L时，能有效地减少铜箔表面铜粉，保证产品质量的稳定。
粗化工艺对电解铜箔表面铜粉的影响
【摘 要】
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研究了粗化电流密度、添加剂、硫酸含量等因素对电解铜箔表面铜粉和剥离强度的影响。结果表明：当粗化电流密度为30A／dm^2，硫酸含量为120g／L，镍离子含量为0．5g／L时，能有效地减少铜箔表
【机 构】
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山东金宝电子股份有限公司
【出 处】
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电镀与涂饰
【发表日期】
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2017年1期
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