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针对纳米器件中的典型几何特征，制备了3种纳米结构，采用扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）等测量工具对所制备的纳米样板进行了测量、分析和表征。提出转换薄膜厚度为线宽的公称值、基于多层薄膜淀积技术制备纳米宽度结构的方法，制备出了具有名义线宽尺寸分别为20nm、25nm、35nm的纳米栅线结构。用离线的图像分析算法对所制备的纳米线宽样板的线边缘粗糙度／线宽粗糙度（LER／LWR）以及栅线线宽的一致性进行了评估。实验表明所制备纳米线宽样板的栅线具有较好的一致性，LER／LWR值小，且具有垂直的侧壁。