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通过直流平衡磁控溅射法在NiTi形状记忆合金基底上制备纯Zr膜，并采用SEM、XRD、XPS等对Zr膜的组织结构进行研究。结果表明：Zr膜具有晶带T型结构，组织保持细小致密的纤维状特征，没有空洞和锥状形态，表面平整，与基体结合良好：膜和其块体Zr靶材晶体结构一致，出现少量的生物惰性ZrO2陶瓷相。最后，对磁控溅射沉积Zr膜的机制进行了探讨。