电镀硬磁性膜层

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在一种含有钴、镍、羧酸、次磷酸钠和硫酸铵的溶液中电沉积可以获得硬磁性膜层,其电解液组成和工艺条件如下:Co^2+1.5-20g/L;Ni^2+0-10g/L;羧酸或其盐20-75g/L,次磷酸钠10-60g/L,硫酸铵20-100g/L,pH为7.1-8.5,电解液温度为40-95摄氏度,阴极电流密度为0.1-2.0A/dm^2,该硬磁性膜层主要用于计算机电子存贮器的镀覆,其优点是所制得的硬磁性膜层的厚度高达100um时,矫顽力与膜层厚度无关,并且适用于园柱形基体的选择性镀覆和无缺陷边缘的镀覆。
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