【摘 要】
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目的研究镍在低共熔溶剂体系中的电沉积、电化学行为及形核方式。方法使用循环伏安法和计时电流法,研究在氯化胆碱-乙二醇(ChCl-EG)低共熔溶剂体系中镍沉积的电化学行为及其
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目的研究镍在低共熔溶剂体系中的电沉积、电化学行为及形核方式。方法使用循环伏安法和计时电流法,研究在氯化胆碱-乙二醇(ChCl-EG)低共熔溶剂体系中镍沉积的电化学行为及其形核理论。采用SEM测试手段对镍电沉积层的微观形貌进行观察和分析,同时采用EDS分析镍镀层的元素组成。结果ChCl-EG低共熔溶剂的电化学窗口为2.63V,镍在ChCl-EG低共熔溶剂体系中的氧化、还原电位分别为0.79V和.0.34V。不同扫描速度的循环伏安曲线表明,在扫速为10~50mV/s时,Ep与v无关,呈现出可逆反应的特性;而当
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