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简要介绍邓“三色”双光掩膜光刻工艺，廉价一步光刻方法和阴影投射光刻工艺。
微系统技术（连载三）—光刻工艺
【摘 要】
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简要介绍邓“三色”双光掩膜光刻工艺，廉价一步光刻方法和阴影投射光刻工艺。
【机 构】
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东北传感技术研究所
【出 处】
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传感器技术
【发表日期】
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1995年6期
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