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论述了日美等国纳米CMOS集成电路半导体制造工艺的现状和发展趋势，分析说明国外半导体制造技术的战略和发展状况；结合90nmCMOS工艺设计的超大规模SOC芯片的实践，对纳米CMOS集成电路设计技术进行分析；阐述SOC设计面临的技术难题，并对今后的发展趋势进行了预测。
纳米CMOS集成电路设计技术和发展趋势
【摘 要】
：
论述了日美等国纳米CMOS集成电路半导体制造工艺的现状和发展趋势，分析说明国外半导体制造技术的战略和发展状况；结合90nmCMOS工艺设计的超大规模SOC芯片的实践，对纳米CMOS集成
【机 构】
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南开大学
【出 处】
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微纳电子技术
【发表日期】
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2007年12期
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