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采用大气开放式金属有机化合物化学气相沉积方法（AP-MOCVD），以四异丙醇钛（TTIP）为原料，改变反应物气化温度、沉积温度、基片与喷嘴的距离、载气流速4种工艺条件在玻璃基片上制备TiO2薄膜。实验结果表明沉积温度主要影响薄膜的物相结构，当沉积温度在300℃时沉积物是无定形的；沉积温度为350℃和400℃时，薄膜由单一的锐钛矿相构成；沉积温度在450℃时出现了少量金红石；继续升高沉积温度金红石的量逐渐增加。气化温度、基片与喷嘴的距离、载气流速这3个工艺条件主要影响薄膜的形貌和沉积难易程度。基片类型对薄膜